总科院。
林修远所在的实验室。
此时，他的助手们忙得飞起。
大家都没想到，短短一个晚上的时间。
林修远便已经将制造芯片所需的高端光刻机给设计出来了。
光刻机的种类一共有四种。
一是采用可见光作为光源，也称之为G线的光刻机，这类光刻机可以生产出500纳米左右工艺的芯片。
二是采用紫外光作为光源，这类光刻机也称为UV光刻机，能生产300纳米左右工艺的芯片。
三是采用深紫外光作为光源，这类光刻机称为DUV光刻机，可生产200纳米左右的芯片。
最后一种也是世界上最先进的高端光刻机。
这类光刻机采用的光源是极紫外光，国际上叫做EUV极紫外光刻机，可生产10到15纳米左右工艺的芯片。
芯片的性能是由制造它的工艺决定的。
工艺越精细，制造出来的芯片性能越高。
林修远设计的这一台高端光刻机便是EUV极紫外光刻机。
而且在光源和蚀刻工艺上还做了许多改进。
在制造芯片的工艺上甚至能达到皮米级。（1纳米=1000皮米）
当然，这只是理论上而已，实际上能不能还得等光刻机生产出来才知道。
不过饶是如此也足以让芯片科研基地的人为之疯狂。
同时也在为林修远的惊天才学赞叹不已。
要知道国际上，一台高端EUV极紫外光刻机，仅仅重量就有180吨，甚至超过了一辆超重型大卡车的空车重量。
而它内部的各种零件、机械件以及传感器等等，加起来零件总数量更是超过了十万。
想要在一夜之间将如此夸张的光刻机设计出来。
这根本不是人能完成的事情。
所以在林修远早上给各个实验室发了光刻机的设计图过去后。
林修远在总科院的芯片研发基地多了一个称呼。
那就是：林神。
除了神之外，人们不知道还有谁能这么牛批！
这可是涉及到十余万个零部件的光刻机啊。
林修远一夜之间设计出来就算了。
还将其工艺进行了改进。
让其能够生产出皮米级工艺的芯片。
如果最后成功了，那这绝对是跨时代的产物。
因为在国外。
无数的科研人员都说1纳米是芯片工艺的极限。
但现在，林修远设计的光刻机便是硬生生地超越了这个极限。
各大实验室中。
一众老牌科研专家们看到林修远的设计图后，纷纷激动的瞪大了眼睛。
之前他们也觉得1纳米是芯片工艺的极限。
如今看到林修远这款光刻机的设计原理后。
他们的认知被重新刷新。
以往的不可能现在变成了极大可能。
当然，既然设计图发到了他们这里。
随之而来的也有任务。
那就是需要他们制造其中的一些元器件。
元器件的详细数据、材料要求等等林修远也备注得一清二楚。
这些老牌科研专家们是真的服了！
彻彻底底的服了。
这世界上怎么可能有这么厉害的人。
他们纷纷按照林修远的要求开始实验。
副总工程师戴仲文看完林修远的设计图后也是佩服得五体投地。
设计一个高端光刻机只需要一夜！
这是什么概念。
这踏马的简直逆天啊！
要知道，国外的EUV极紫外光刻机可是经过数十个国家上万名科研专家几十年的辛苦研究才造出来的。
而林修远，只需要一夜。
他这个芯片研发项目的总工程师当之无愧啊！
在众人震惊无比时。
林修远却没当回事。
他的计划是为炎国搭建一整条高端芯片产业链。
这高端光刻机不过是产业链中的一环而已。
除了高端光刻机外，还有原材料的开采，提炼，应用和后期芯片的检测、封装等等。
这些环节涉及到的技术都非常多。
有的炎国已经领先了全世界。
有的确实还要进一步研发改进。
但不可否认的是。
他的这一张设计图在整个总科院都掀起了轩然大波。
戴仲文将这张设计图转发给了总科院院长刘强国。
此时，刘强国正在办公室里跟李国祥商量一些事情。
两人还不知道林修远已经设计出EUV极紫外光刻机这件事。
收到戴仲文的邮件后，刘强国连忙打开看了一眼。
当他看清楚这是什么的时候。
他的嘴巴慢慢张大。
眼睛一动不动的盯着电脑屏幕。
“这！这！......”
坐在他对面的李国祥满脸不解。
“怎么了？出了什么事？”
“来来来！你来看看，我是不是眼花了？”
“什么事啊？”
李国祥满脸疑惑地走到对面。
当他看清刘强国电脑屏幕上的内容时。
他的表情跟刘强国出奇的一致。
“这！这！......”
......
两人此刻的表情充满了不可思议。
刘强国：“林总工这也太变态了吧！一夜就将EUV极紫外光刻机给设计出来了，这可是国外封锁了我们数年的东西啊！”
李国祥：“太强了，实在太强了！不行！院长，我给你找了个这么好的人才回来，你还没感谢我呢！”
刘强国：“哈哈哈！老李啊！你放心，等林总工的光刻机造出来，酒绝对管够！”
李国祥：“嘿嘿！那我可记住了！”
震惊过后。
刘强国当即给财务部门打了电话过去，让财务部门加大对芯片科研基地的拨款力度。
争取最快时间把这一款光刻机给造出来。
只要这款光刻机能够造出来。
那炎国在高端芯片领域将彻底突破国外的技术封锁。
之前国外某国还扬言说就算把设计图给炎国，炎国都不一定造得出来。
但是他们一直没人敢把设计图公布出来。
说到底还是有点畏惧炎国科研工作者的能力。
如今，就算他们不给，炎国也有了属于自己的EUV极紫外光刻机。
而且跟国外的EUV极紫外光刻机相比，在理论数据上还要更先进一些。
说更先进一些可能有些谦虚了。
那简直是吊打啊！
国外的EUV极紫外光刻机普遍都是可生产7到15纳米左右工艺的芯片.
而林修远设计的这一款，直接突破到了皮米级。
刘强国已经迫不及待想看到这款光刻机问世去打脸国外的某些国家了。
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